Für seine Arbeiten auf dem Gebiet der Materialwissenschaft erhielt Christian Mühlig vom IPHT im Rahmen des „SPIE Symposium Laser Damage 2010“ in Boulder die Auszeichnung für „Best Poster Präsentation“. Mühlig präsentierte seine Forschungsergebnisse bereits auf der Konferenz im Herbst 2009. Neben der Posterpräsentation war die wissenschaftliche Qualität der erst nach der Konferenz einzureichenden Veröffentlichung entscheidendes Kriterium für die Jury.

Die ausgezeichnete Arbeit untersucht die Auswirkung von Laserpulsen auf Gläser bzw. Kristalle, wie sie zum Beispiel in verschiedenen Reinraumkomponenten zum Einsatz kommen. Dabei stand die Frage im Mittelpunkt, inwiefern die Haltbarkeit der verwendeten Materialien von durch Natriumverunreinigungen induzierten Defekten beeinträchtigt wird. Die gewonnen Erkenntnisse haben einen hohen Wert für den Bau von Hochleistungslasern (z.B. Fusionsforschung, Ultrakurzpulslaser, Materialbearbeitung) und zur Laserlithographie (Fertigung der derzeit schnellsten Computerchips) in Wafer-Steppern mit Hochleistungs-Objektiven (z.B. von Zeiss-Oberkochen).

Das „SPIE Symposium Laser Damage“ ist weltweit die führende Konferenz zum Austausch von Informationen über Physik/Technologie von Materialen zur Anwendung für Hoch- bzw. Höchstleistungslasern. Sie findet jährlich immer in Boulder (CO, USA) am „National Institute of Standards and Technology (NIST)“ (die „amerikanische PTB“) statt.