Properties of phosphorus doped ZnO

in: Applied Physics A-Materials Science & Processing (2007)
von Wenckstern, Holger; Benndorf, Gabriele; Heitsch, S.; Sann, J.; Brandt, Matthias; Schmidt, Heidemarie; Lenzner, Jörg; Lorenz, Michael; Kuznetsov, A. Y.; Meyer, B. K.; Grundmann, Marius
We report the electrical and optical properties of P-doped epitaxial ZnO thin films grown heteroepitaxially on sapphire substrates or homoepitaxially on ZnO wafers grown by the hydrothermal method, respectively. As-grown heteroepitaxial thin films exhibit semi-insulating to strongly n-conducting behavior depending on the P-content and the oxygen partial pressure applied during deposition. New features are observed in the recombination spectra compared to nominally undoped ZnO thin films. The spectral position of these new features also depends on the growth conditions making a clear correlation between P-incorporation and particular spectral features feasible. For the homoepitaxially grown thin films lateral scanning capacitance microscopy measurements revealed areas of both n- and p-type majority carriers.

Cookies & Skripte von Drittanbietern

Diese Website verwendet Cookies. Für eine optimale Performance, eine reibungslose Verwendung sozialer Medien und aus Werbezwecken empfiehlt es sich, der Verwendung von Cookies & Skripten durch Drittanbieter zuzustimmen. Dafür werden möglicherweise Informationen zu Ihrer Verwendung der Website von Drittanbietern für soziale Medien, Werbung und Analysen weitergegeben.
Weitere Informationen finden Sie unter Datenschutz und im Impressum.
Welchen Cookies & Skripten und der damit verbundenen Verarbeitung Ihrer persönlichen Daten stimmen Sie zu?

Sie können Ihre Einstellungen jederzeit unter Datenschutz ändern.