Diffusion in binary TiO2- SiO2 glasss

in: Optical Materials Express (2014)
Kirchhof, Johannes; Unger, Sonja; Dellith, Jan; Scheffel, Andy
The diffusion of titanium in TiO2-SiO2 glasses with up to 7 mol% TiO2 was investigated by annealing doped layers on the inner surface of quartz glass tubes between 1700 and 2000°C and measuring radial doping profiles via X-ray microprobe analysis and refractive index profiling subsequent to the tube collapse. By comparison with calculat-ed profiles, diffusion coefficients were able to be determined and fitted with an Arrhenius function. Both the preexponential D0 = 10(0.56+0.51c) cm2∙s-1 and the activation energy E = (473+11.6c) kJ∙mol-1 increase with increasing molar concentration of titanium c.

Cookies & Skripte von Drittanbietern

Diese Website verwendet Cookies. Für eine optimale Performance, eine reibungslose Verwendung sozialer Medien und aus Werbezwecken empfiehlt es sich, der Verwendung von Cookies & Skripten durch Drittanbieter zuzustimmen. Dafür werden möglicherweise Informationen zu Ihrer Verwendung der Website von Drittanbietern für soziale Medien, Werbung und Analysen weitergegeben.
Weitere Informationen finden Sie unter Datenschutz und im Impressum.
Welchen Cookies & Skripten und der damit verbundenen Verarbeitung Ihrer persönlichen Daten stimmen Sie zu?

Sie können Ihre Einstellungen jederzeit unter Datenschutz ändern.